1.设备描述 精密电铸机整机由主构架、排风罩、水/气路、槽体和电气控制等组成。外形尺寸约为:530mm(长)×420mm(宽)×520mm(高)。机箱槽体均采用PP板焊接而成 2.电脑程序控制:可控制温度、电... ...
深圳市昊光机电科技应用有限公司是一家采用PVD技术从事真空表面处理的高新技术企业 产品应用领域和镀膜产品有: --手表外观件IPG、IPS、IP黑、玫瑰金、钛灰等真空离子镀膜,质量稳定,价格合理... ...
AME-8100等离子体刻蚀机用于反应离子蚀刻氧化物,氮化物。可针对4",5"或6"晶圆。 等离子体刻蚀机用于反应离子蚀刻氧化物,氮化物。可针对4",5"或6"晶圆。 设备描述: 1、真空系统:爱德华干泵+... ...
Karl SUSS MA56光罩对准曝光系统,利用紫外线通过模版对光刻胶进行曝光的设备,该设备为大规模集成电路、传感器、表面波元件、微波、LED、CCD等器件生产的重要生产设备,适用于Si,SiGe,SOI,SOS,GaAs,InP,I... ...
1、设备名称:RIE离子刻蚀设备 2、设备功能:反应离子刻蚀,氮化硅、氧化硅 3、设备应用:半导体、MEMS、电子、太阳能、薄膜电池等 4、设备配置: *RFX600电源(60013.56瓦兆赫)射频电源 *... ...
TYTAN炉系统用于半导体器件、微机电系统和光电池的制造。泰斯达已经在安装了数百个炉子,并且它们的运转都是成功的,一些系统的运转已经过了20年。TYTAN炉是由各种组件和组合件组装而成的的装置。其... ...
一、真空抽气部分 莱宝粗抽泵+I 10 ON BOARD 冷凝泵 二、真空检测 INFICON:BPG400真空规 三、蒸发系统控制及膜厚检测 1、蒸发控制器:运行+设定 2、触摸屏和电位器分别控制 3、... ...
6.1、真空箱体:铝制箱体,一体化制造 6.2、抽气系统:普发隔膜泵+分子泵 6.3、真空检测:BALAZERS冷规 6.4、电源:高电源,毫安级控制 6.5、靶配置:1-3个溅射阴,阴采用软磁铁设计 ... ...
1、设备名称:MRC603真空溅射镀膜机 2、设备品牌:美国MRC 3、设备规格:MRC603 4、设备介绍: MRC603采用的立式结构设计及结构的阴,可实现高溅射,膜厚均匀性和高靶材使用率,从... ...
该系统专门针对光伏太阳能所需要的铝电镀膜设计,分为7个真空室:进料室、辉光清洗室、过渡室、溅射室1+溅射室2、传输室、缓冲室、出料室。系统整体设计严格,采用分子泵高真空机组,可配备高溅射效率的平面靶... ...
新型单槽垂直电铸系统是昊光科技有限公司新式出口产品,它是目前半导体、MEMS、LED、TFT、微结构、电子、微波通讯等制造行业设备市场上所能提供的更高,更精密和更优良的工艺配套设施,该设备设计精密、结构合... ...
1、设备名称:MRC943真空溅射镀膜机 2、设备介绍: MRC943采用的卧式结构设计及结构的阴,可实现高溅射,高均匀性及高靶材使用率,适合从研发应用到大批量生产,可沉积介质膜、金属膜等材... ...
本设备是利用真空磁控溅射镀膜方式,可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、III-V族化合物、金属等材料表面镀制各种金属、非金属、化合物薄膜材料。如Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO... ...
特点: 1、采用的磁路设计,传统模式,更合磁控溅射的理念。 2、采用的结构设计,冷却充分,可满足大功率、大电流使用要求。 3、更高的溅射率,离子密度更强。 4、更高的利用率,... ...
平面溅射阴 特点: 1、采用的磁路设计,传统模式,更合磁控溅射的理念。 2、采用的结构设计,可以内置、外置,更合使用要求。 3、更高的溅射率,离子密度更强。 4、更高的... ...
1、设备整体尺寸:2000mm*18000mm*1600mm(宽*深*高) 2、真空室尺寸:直径700、900、1100mm 3、平行板电尺寸:直径600、800、1000mm 4、电冷却及调节:水冷,可调节 5、真空系统:粗抽泵+... ...